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等离子处理设备

等离子处理设备

Plasma equipament

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WAP系列宽幅等离子处理设备

宽幅式等离子设备是通过DBD（Dielectric Barrier Discharge）介质阻挡放电技术形成稳定连续Plasma的先进设备。

产品优势

人机交互系统;

不改变机体固有特性，改性仅发生在表面;

全程干法处理，无污染；

放电稳定，处理均匀；

低温，无烫伤或击穿风险；

单次处理宽度较宽。

产品参数

参数规格
类别	WAP-H系列	WAP-R系列
处理宽度	100-400mm，可定制	100-250mm，可定制
电源功率	2000W	500W
电源频率	20-50KHz	13.56MHz
主要工作气体	N2	Ar
流量范围	100-500SLM	10-100SLM
气源压力	0.4MPa以上	0.2-0.4MPa
冷却方式	气冷	水冷

行业应用

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